특허청, “표준특허 선점 통한 양자․AI기술 발굴 힘써”
[애플경제 이보영 기자] 날로 AI와 양자 기술의 경쟁력이 강조되고 있다. 그런 가운데 특허청도 최근 산·학·연의 연구 개발(R&D) 기획을 지원하기 위해 양자와 인공지능 분야에서 표준특허 선점이 필요한 유망기술 발굴에 착수한다고 밝혔다.
표준 특허는 국제 표준화기구에서 정한 표준기술을 포함한 특허로, 관련 제품 생산에 필수적으로 사용된다.
양자와 인공지능은 전 세계 산업 구조와 시장을 완전히 재편할 수 있는 파괴적 혁신 기술이다. 지난 8월 한-미-일 정상회담에서 논의된 3국간 세계 표준화 협력 대상 기술에도 포함됐다. 현재 여러 표준화 기구에서 이들 분야의 표준화가 논의되고 있으나, 아직은 초기 단계이다.
이에 특허청은 표준특허 선점 시 관련 시장을 선도할 기회가 열리는 만큼, 표준특허 확보 관점에서 유망기술을 발굴해 우리 산·학·연의 경쟁력 향상에 일조하겠다는 방침이다.
유망기술 발굴은 표준과 특허정보의 종합적인 분석을 기반으로 이루어진다. 표준 반영 가능성, 우리나라의 특허 경쟁력 등 여러 지표를 활용한 종합적 평가를 바탕으로 산·학·연 전문가의 자문을 통해 연구 개발(R&D)·표준화 현장의 시각을 더하는 방식으로 추진된다.
특허청은 올해 연말까지 유망기술을 도출하고 각 유망기술별 표준특허 확보 전략을 함께 실은 종합보고서를 발간할 예정이다. 보고서는 표준특허누리집(http://biz.kista.re.kr/epcenter)을 통해 배포할 계획이다.
양자와 인공지능은 미래 산업의 ‘국면 전환자’로 불리는 만큼 표준특허를 선점하는게 중요하다는 지적이다. 이에 정부도 연구 개발(R&D) 효율성을 높이기 위한 지원을 계속 이어나갈 계획이다.